Materiais fotocrômicros de matriz polimérica e respectivos método de obtenção e uso
Carregando...
Arquivos
Data
2011-01-11
Autores
Molina, Celso
Barud, Hernane da Silva
Ribeiro, Sidney José Lima [UNESP]
Messaddeq, Younes [UNESP]
Nalin, Marcelo
Título da Revista
ISSN da Revista
Título de Volume
Editor
Instituto Nacional de Propriedade Industrial (INPI)
Resumo
A presente invenção refere-se a um material compásito, de matriz polimérica, no qual são incorporados materiais fotossensiveis, notadamente heteropoliánions (polioxometalatos POMs), partícularmente ácido fosfotúngstico, ácido siíícotúngstico, ácido fosfomolíbdico e ácido silicomofíbdico, A matriz polimérica é constituída preferencialmente por acrilato, metacrilato, acetato de celulose e hidroxipropilcelulose. Refere-se também ao processo para incorporação dos agentes fotossensíveis nas matrizes políméricas e ao uso do dito produto obtido ao final do processo.
Descrição
Processo: PI0905108-2
Número de publicação: BRPI0905108 (A2)
Número de aplicação: BR2009PI05108
Número de publicação: BRPI0905108 (A2)
Número de aplicação: BR2009PI05108