Publicação: Efeitos de tratamentos térmicos em filmes nanocristalinos de TIO2 preparados por sputtering
Carregando...
Arquivos
Data
Autores
Orientador
Silva, José Humberto Dias da 
Coorientador
Pós-graduação
Ciência e Tecnologia de Materiais - FC
Curso de graduação
Título da Revista
ISSN da Revista
Título de Volume
Editor
Universidade Estadual Paulista (Unesp)
Tipo
Dissertação de mestrado
Direito de acesso
Acesso aberto
Resumo
Resumo (português)
Os efeitos causados por tratamentos térmicos em filmes de TiO2 preparados pela técnica de sputtering reativo foram investigados. Foram realizadas duas deposições, variando somente a temperatura de substrato, com aquecimento de 450ºC e sem aquecimento e foram obtidos filmes com espessura entre 330 e 450 nm. Os tratamentos térmicos foram realizados em temperaturas de 300 a 900ºC, intervalos de 100Cº e durações de 20 minutos e 300 minutos. As atmosferas utilizadas foram ambiente e vácuo (10-4torr). Foram focos da pesquisa as mudanças da fase anatase para rutila, variações na energia do gap e modificações na morfologia e na superfície. Tais mudanças foram identificadas por meio de espectros de transmitância óptica e medidas estruturais de raios X e Raman. Como principais resultados, obteve-se que todos os filmes cresceram na fase anatase com uma morfologia colunar, a temperatura de transição de fase depende da atmosfera de tratamento térmico (900ºC para atmosfera ambiente e 800ºC para vácuo), a presença da fase rutila está relacionada com o espalhamento de luz e o tempo de tratamento não teve influência nos resultados
Resumo (inglês)
Not available
Descrição
Palavras-chave
Crepitação (Fisica), Raios X, Dióxido de titânio, Fotocatalise, Sputtering (Physics)
Idioma
Português
Como citar
TONIATO, Rodrigo Garcia. Efeitos de tratamentos térmicos em filmes nanocristalinos de TIO2 preparados por sputtering. 2013. 106 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciências, 2013.
