Projeto de célula de memória SRAM em três diferentes nós tecnológicos
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Data
2021-11-10
Autores
Silva, Pedro Henrique Penna da
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Editor
Universidade Estadual Paulista (Unesp)
Resumo
With a world that is becoming more and more technological, people started to demand more speed and higher performance from electro-electronic devices. Based on this information, the main strategy was to reduce the size of the electronic components to then have a reduction in area, placing more components and thus increasing the complexity of the circuits. Starting in the 1970s, the MOSFET technology revealed itself capable of building ever-smaller transistors, with fast switching and high scaling capacity. Through this miniaturization and the decrease in the occupied area, it was possible to build devices with a larger number of transistors, thus improving their speed and performance. In this work a six-transistor 6TSRAM static random access memory cell was studied, which was designed through Microwind2 software for three different technology nodes: 350 nm, 130 nm and 65 nm. This work was based on comparing the results between the three technology nodes. The first comparison to be made was about the size of the transistors and the total area occupied by the memory cell. The second was about the write and read speed of the cell. The last one was the comparison of the static noise margin. The intention was to show that as the technology node was reduced, there would be a gain in space, speed, and greater susceptibility to noise. This monograph also highlights the problem of decreasing the size of the technology node too much using MOSFET technology, which starts to be influenced by short channel effects
Com um mundo cada vez mais tecnológico, as pessoas passaram a exigir mais velocidade e maior desempenho dos aparelhos eletroeletrônicos. Baseado nessas informações a principal estratégia foi a diminuição no tamanho dos componentes eletrônicos para então ter uma redução em área, colocando mais componentes e assim, aumentando a complexidade dos circuitos. A partir dos anos 70, a tecnologia MOSFET, revelou ser capaz de construir transistores cada vez menores, de chaveamento rápido e alta capacidade de escalonamento. Através desta miniaturização e a diminuição na área ocupada, foi possível construir aparelhos com um número maior de transistores, melhorando assim, a sua velocidade e o seu desempenho. Neste trabalho foi estudado uma célula de memória de acesso aleatório estático de seis transistores 6TSRAM, que foi projetada através do software Microwind2 para três diferentes nós tecnológicos: 350 nm, 130 nm e 65 nm. Este trabalho teve como base a comparação dos resultados entre os três nós tecnológicos. A primeira comparação a ser feita foi sobre o tamanho dos transistores e a área total ocupada pela célula de memória. A segunda foi sobre a velocidade de escrita e leitura da célula. A última foi a comparação da margem de ruído estático. O intuito foi mostrar que conforme diminuísse o nó tecnológico teria um ganho de espaço, velocidade e maior susceptibilidade a ruídos. Nesta monografia também é ressaltado o problema de diminuir muito o tamanho do nó tecnológico utilizando a tecnologia MOSFET, que começa a ser influenciada pelos efeitos de canal curto.
Com um mundo cada vez mais tecnológico, as pessoas passaram a exigir mais velocidade e maior desempenho dos aparelhos eletroeletrônicos. Baseado nessas informações a principal estratégia foi a diminuição no tamanho dos componentes eletrônicos para então ter uma redução em área, colocando mais componentes e assim, aumentando a complexidade dos circuitos. A partir dos anos 70, a tecnologia MOSFET, revelou ser capaz de construir transistores cada vez menores, de chaveamento rápido e alta capacidade de escalonamento. Através desta miniaturização e a diminuição na área ocupada, foi possível construir aparelhos com um número maior de transistores, melhorando assim, a sua velocidade e o seu desempenho. Neste trabalho foi estudado uma célula de memória de acesso aleatório estático de seis transistores 6TSRAM, que foi projetada através do software Microwind2 para três diferentes nós tecnológicos: 350 nm, 130 nm e 65 nm. Este trabalho teve como base a comparação dos resultados entre os três nós tecnológicos. A primeira comparação a ser feita foi sobre o tamanho dos transistores e a área total ocupada pela célula de memória. A segunda foi sobre a velocidade de escrita e leitura da célula. A última foi a comparação da margem de ruído estático. O intuito foi mostrar que conforme diminuísse o nó tecnológico teria um ganho de espaço, velocidade e maior susceptibilidade a ruídos. Nesta monografia também é ressaltado o problema de diminuir muito o tamanho do nó tecnológico utilizando a tecnologia MOSFET, que começa a ser influenciada pelos efeitos de canal curto.
Descrição
Palavras-chave
Semiconductors, Metal oxide semiconductors, Memória de acesso aleatório, Circuitos eletrônicos, Microeletrônica