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Proposal of a p-type Back-Enhanced Tunnel Field Effect Transistor

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Resumo

In this paper we propose a new p-type Tunnel Field Effect Transistor based on the planar Back-Enhanced structure (BE-pTFET), by removing the p-type drain doping and using a back bias to obtain similar on-state behaviors to those of a conventional pTFET, while eliminating the ambipolar effect.

Descrição

Palavras-chave

Silicon-On-Insulator (SOI), Tunnel Field Effect Transistor (TFET), Ultra-Thin Body and Buried oxide (UTBB)

Idioma

Inglês

Citação

2019 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon, EUROSOI-ULIS 2019.

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