Silva, Jose Humberto Dias daEscaliante, Lucas CaniatiPereira, André Luis de Jesus2023-07-032023-07-032021-12-022023-06-13http://hdl.handle.net/11449/244336BR 10 2021 024344 9O presente pedido de patente de invenção trata-se de um processo de interrupção do fluxo do gás reativo que alimenta a câmara de deposição do sputtering durante o período de deposição dos filmes finos, a fim de se modificar propriedades físicas, morfológicas e estruturais dos materiais depositados. O presente processo pode ser utilizado em escalas laboratoriais, comerciais ou industriais.porProcesso de interrupção do fluxo do gás reativo durante deposições feitas por sputteringPatenteAcesso aberto