Desenvolvimento e caracterização físico-química de um novo filme de PECVD na melhora da resistência de união entre a Y-TZP e a cerâmica de cobertura - Bitencourt, Sandro Basso [UNESP] (Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2017)
A obtenção de uma união duradoura da interface zircônia/cerâmica de cobertura é uma preocupação para sucesso clínico de restaurações livres de metal e ainda não existem evidências que indiquem uma técnica de tratamento dessa zircônia com melhor previsibilidade e durabilidade. Assim, o objetivo desse estudo foi desenvolver e caracterizar fisico-quimicamente um novo filme por vapor químico melhorado por plasma (plasma enhanced chemical vapor deposition – PECVD) na superfície da zircônia tetragonal policristalina estabilizada por óxido de ítrio (Y-TZP) para melhorar sua resistência de união com cerâmica de cobertura. Para isso, um total de 192 amostras de Y-TZP (13×5,4×5 mm) foram divididas em 6 grupos, de acordo com o tratamento de superfície: controle – sem tratamento (C), jateamento com partículas de óxido de alumínio de 27 µm (Al27), jateamento com partículas de óxido de alumínio de 110 µm (Al110), jateamento com partículas de óxido de alumínio de 250 µm (Al250), aplicação de liner para zircônia (L) e o filme por PECVD (P). A superfície da Y-TZP foi caracterizada por meio da microscopia eletrônica de varredura (MEV), espectroscopia de energia dispersiva (EED), microscopia de força atômica (MFA), perfilometria e energia livre de superfície. A resistência de união entre a Y-TZP e uma cerâmica de cobertura foi testada antes e após fadiga térmica (20.000 ciclos de 5 e 55 °C). Os dados foram submetidos à análise de variância e teste Tukey HSD (α=0,05). Como resultados, foi encontrado que o grupo P não alterou a rugosidade de superfície da Y-TZP (P>0,05 vs controle), enquanto os grupos Al110, Al250 e L apresentaram os maiores valores (P<0,05). Todos os tratamentos melhoraram a energia livre de superfície da Y-TZP, exceto o Al27. O grupo P mostrou os maiores valores de resistência ao cisalhamento (P<0,05), sendo semelhante apenas ao grupo Al27 (P=0,107). Os demais grupos foram similares ao controle (P>0,05). A fadiga térmica não afetou a interface Y-TZP/cerâmica de cobertura. Filmes produzidos pela deposição por plasma não promovem alterações estruturais na Y-TZP e são promissores para melhorar a interface de união Y-TZP/cerâmica de cobertura.

The obtainment of a durable zirconia/veneer ceramic interface bond is a preoccupation for clinical success of metal-free restorations and did not exist evidence indicates that the technique with the best predictability and durability. Thus, the aim of this study was to develop and to physico-chemically characterize a novel film formed after plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) on the yttria stabilized tetragonal zirconia (Y-TZP) surface aiming to improve its bond strength to the veneer ceramic. For this, a total of 192 YTZP samples (13×5.4×5 mm) were divided in 6 groups, according the surface treatment: control – no treatment (C), airborne-particle with 27 µm aluminum oxide (Al27), airborneparticle with 110 µm aluminum oxide (Al110), airborne-particle with 250 µm aluminum oxide (Al250), zirconia liner (L) and the film by PECVD (P). The Y-TZP surface was characterized through scanning electron microscopy (SEM), energy dispersive spectroscopy (EDS), atomic force microscopy (AFM), surface roughness and surface free energy. The bond strength between Y-TZP and veneer ceramic was tested before and after thermal fatigue (20,000 cycles of 5 and 55ºC). The data were submitted to analysis of variance and Tukey HSD test (α=0.05). The results were that the roughness of Y-TZP surface was not modified in the P group (P>0.05 vs control), while the Al110, Al250 and L groups showed higher roughness values (P<0.05). All the treatments improved the surface free energy of Y-TZP, except for the Al27 group. The P group showed higher shear bond strength (P<0.05), similar only to the Al27 group (P=0.107). The other groups were similar to control (P>0.05). The thermal fatigue did not affect the Y-TZP/veneer ceramic interface. Films produced by the PECVD deposition did not promote structural changes on the Y-TZP and are promising to improve the bond interface Y-TZP/veneer ceramic.
Development and physical-chemical characterization of a novel PECVD film to improve the bond strength between Y-TZP and veneering ceramic
Keywords: Zircônio; Cerâmica; Gases em plasma; Resistência ao cisalhamento