Análise da Resistência Série Fonte-Dreno de Transistores HEMTs (“High Electron Mobility Transistor”)
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Data
2021-12-03
Autores
Sanchez, Gabriel Vieira
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Editor
Universidade Estadual Paulista (Unesp)
Resumo
This work has as objective the study of High Electron Mobility Transistors' Source-Drain Series Resistance (RSD) with twelve different configurations of Channel Length and Channel Width for four Dies (blades) operating at Linear and Saturation regions. To do so, a previous analysis was made on equal devices in order to check if there was any irregularity with them that could impact on the results (such as burned device). Then, the Drain Current (ID) versus Gate Voltage (VG) graphs were plotted and the Transconductance (gm) was obtained. With ORTIZ-CONDE's method, the Threshold Voltages (VT) were determined. With these values and using Ohm's Laws, the Total Resistance of these devices were obtained, being composed, basically, by the Channel's Resistance and SourceDrain Series Resistance. Tending Channel's Length to zero (using Linear Fit) is possible to propose an approximation that the Total Resistance is equal to SourceDrain Series Resistance of HEMT. That said, the focus was on analyzing the impacts of parameters' changes of HEMTs (Channel's Length and Width) of different blades on Source-Drain Series Resistance. Finally, some improvements were proposed to be executed in further studies.
Este trabalho tem como objetivo estudar a Resistência Série Fonte-Dreno (RSD) de transistores de alta mobilidade de elétrons (HEMTs – “High Electron Mobility Transistors”) com doze configurações diferentes de Comprimento de Canal e Largura de Canal para quatro lâminas dopadas de maneira diferentes nas regiões de operação Linear e Saturação. Para tal, realizou-se uma análise de dispositivos iguais a fim de notar se havia alguma irregularidade com eles que pudesse impactar nos resultados (como um dispositivo queimado). Feito isso, obteve-se as curvas de Corrente de Dreno (ID) por Tensão de Porta (VG) e a Transcondutância (gm) para que, através do método proposto por ORTIZ-CONDE, fossem determinadas as Tensões de Limiar (VT). Tendo tais valores, utilizou-se das Leis de Ohm para determinar os valores para a Resistência Total dos dispositivos que é composta, basicamente, pela Resistência do Canal e pela Resistência Série Fonte-Dreno. Tendendo o valor do Comprimento do Canal a zero (utilizando Regressão Linear) é possível realizar a aproximação de que a Resistência Total é igual à Resistência Série Fonte-Dreno do HEMT. Diante disso, o foco foi voltado para analisar quais eram os impactos das alterações de parâmetros dos HEMTs (Largura e Comprimento de Canal) das diferentes lâminas nos valores de Resistência Série Fonte-Dreno. Por fim, foram propostas melhorias para serem executadas em eventuais trabalhos futuros.
Este trabalho tem como objetivo estudar a Resistência Série Fonte-Dreno (RSD) de transistores de alta mobilidade de elétrons (HEMTs – “High Electron Mobility Transistors”) com doze configurações diferentes de Comprimento de Canal e Largura de Canal para quatro lâminas dopadas de maneira diferentes nas regiões de operação Linear e Saturação. Para tal, realizou-se uma análise de dispositivos iguais a fim de notar se havia alguma irregularidade com eles que pudesse impactar nos resultados (como um dispositivo queimado). Feito isso, obteve-se as curvas de Corrente de Dreno (ID) por Tensão de Porta (VG) e a Transcondutância (gm) para que, através do método proposto por ORTIZ-CONDE, fossem determinadas as Tensões de Limiar (VT). Tendo tais valores, utilizou-se das Leis de Ohm para determinar os valores para a Resistência Total dos dispositivos que é composta, basicamente, pela Resistência do Canal e pela Resistência Série Fonte-Dreno. Tendendo o valor do Comprimento do Canal a zero (utilizando Regressão Linear) é possível realizar a aproximação de que a Resistência Total é igual à Resistência Série Fonte-Dreno do HEMT. Diante disso, o foco foi voltado para analisar quais eram os impactos das alterações de parâmetros dos HEMTs (Largura e Comprimento de Canal) das diferentes lâminas nos valores de Resistência Série Fonte-Dreno. Por fim, foram propostas melhorias para serem executadas em eventuais trabalhos futuros.
Descrição
Palavras-chave
Microelectronic, Transistors, Microeletrônica, Transistores