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Materiais fotocrômicros de matriz polimérica e respectivos método de obtenção e uso

dc.contributor.authorMolina, Celso
dc.contributor.authorBarud, Hernane da Silva
dc.contributor.authorRibeiro, Sidney José Lima [UNESP]
dc.contributor.authorMessaddeq, Younes [UNESP]
dc.contributor.authorNalin, Marcelo
dc.contributor.institutionUniversidade Estadual Paulista (Unesp)
dc.date.accessioned2014-09-02T13:14:15Z
dc.date.available2014-09-02T13:14:15Z
dc.date.created2009-03-26
dc.date.issued2011-01-11
dc.descriptionProcesso: PI0905108-2
dc.descriptionNúmero de publicação: BRPI0905108 (A2)
dc.descriptionNúmero de aplicação: BR2009PI05108
dc.description.abstractA presente invenção refere-se a um material compásito, de matriz polimérica, no qual são incorporados materiais fotossensiveis, notadamente heteropoliánions (polioxometalatos POMs), partícularmente ácido fosfotúngstico, ácido siíícotúngstico, ácido fosfomolíbdico e ácido silicomofíbdico, A matriz polimérica é constituída preferencialmente por acrilato, metacrilato, acetato de celulose e hidroxipropilcelulose. Refere-se também ao processo para incorporação dos agentes fotossensíveis nas matrizes políméricas e ao uso do dito produto obtido ao final do processo.pt
dc.identifierhttp://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/originalDocument?CC=BR&FT=D&NR=PI0905108A2
dc.identifier.fileINPI-PI0905108-2.pdf
dc.identifier.lattes3349586880746735
dc.identifier.orcid0000-0003-3286-9440
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11449/109019
dc.language.isopor
dc.publisherInstituto Nacional de Propriedade Industrial (INPI)
dc.rights.accessRightsAcesso aberto
dc.sourceInstituto Nacional de Propriedade Industrial (INPI)
dc.titleMateriais fotocrômicros de matriz polimérica e respectivos método de obtenção e usopt
dc.typePatente
dspace.entity.typePublication
unesp.author.lattes3349586880746735

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