Caracterização estrutural de filmes de óxidos de titânio e zinco visando aplicações em células fotovoltaicas de última geração
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Data
2023-02-16
Autores
Orientador
Silva, José Humberto Dias da 
Coorientador
Pós-graduação
Curso de graduação
Física - FC
Título da Revista
ISSN da Revista
Título de Volume
Editor
Universidade Estadual Paulista (Unesp)
Tipo
Trabalho de conclusão de curso
Direito de acesso
Acesso aberto
Resumo
Resumo (português)
A proposta deste trabalho de conclusão de curso é realizar a caracterização estrutural de filmes finos de óxidos de titânio e zinco, utilizando o método de difração de raio-X (DRX) e analisar os resultados obtidos através dos difratogramas.
Os resultados desejados para este trabalho analisando os difratogramas são, o tamanho médio do cristalito através da equação de scherrer, e a posição 2θ dos picos encontrados, podendo assim serem sobrepostos e comparados com outros difratogramas bem definidos encontrados na literatura.
Os filmes finos de óxidos de metais de transição caracterizados foram crescidos través do método de sputtering.
E o intuito deste trabalho é comprovar que os filmes finos depositados poderão ser aplicados em células fotovoltaicas de última geração
Resumo (inglês)
The purpose of this course conclusion work is to carry out the structural characterization of thin films of titanium and zinc oxides, using the X analyze the results obtained through diffractograms. The desired results for tray diffraction method (XRD) and to his work analyzing the diffractograms are, the average crystallite size through the Scherrer equation, and the 2θ position of the peaks found, thus being able to be superimposed and compared with other well literature. Tdefined diffractograms found in the he characterized thin films of transition metal oxides were grown using the sputtering method. And the purpose of this work is to prove that the deposited thin films can be applied in stateoftheart photovoltaic cells
Descrição
Palavras-chave
Idioma
Português