Processo de obtenção de revestimentos à base de silício e polímeros revestidos obtidos
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Data
2021-06-08
Orientador
Coorientador
Pós-graduação
Curso de graduação
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Tipo
Patente
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Acesso aberto
Resumo
A presente invenção refere-se ao processo de obtenção de revestimentos à base de silício, por meio de deposição química de vapor em plasmas de baixa pressão, que promovem melhoria nas propriedades de barreira de materiais poliméricos, tais como a Poliamida 6, devido à formação de camada única de oxicarbeto de silício. Os revestimentos produzidos apresentaram melhorias na propriedade de barreira em, pelo menos, 40%. Estes revestimentos podem ser aplicados principalmente na produção de embalagens com maior barreira ao oxigênio, à vapor d’água e à radiação ultravioleta.
Descrição
Processo: BR 10 2019 024929 3
Palavras-chave
Idioma
Português
