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Deposition and etching of HMDSO/SF6 plasma polymerized thin films.

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dc.contributor.authorSantana, R. G.
dc.contributor.authorHonda, R. Y.
dc.contributor.authorAlgatti, M. A.
dc.contributor.authorKayama, M. E.
dc.contributor.authorMota, Rogério Pinto [UNESP]
dc.contributor.institutionUniversidade Estadual Paulista (Unesp)
dc.date.accessioned2014-05-20T15:28:01Z
dc.date.available2014-05-20T15:28:01Z
dc.date.issued1997-04-13
dc.description.affiliationUNIV ESTADUAL PAULISTA,BR-12500000 GUARATINGUETA,SP,BRAZIL
dc.description.affiliationUnespUNIV ESTADUAL PAULISTA,BR-12500000 GUARATINGUETA,SP,BRAZIL
dc.format.extent456-POLY
dc.identifier.citationAbstracts of Papers of the American Chemical Society. Washington: Amer Chemical Soc, v. 213, p. 456-POLY, 1997.
dc.identifier.issn0065-7727
dc.identifier.lattes0406258050385008
dc.identifier.lattes9585258374949244
dc.identifier.lattes0400554449253191
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11449/37920
dc.identifier.wosWOS:A1997WP18703193
dc.language.isoeng
dc.publisherAmer Chemical Soc
dc.relation.ispartofAbstracts of Papers of the American Chemical Society
dc.rights.accessRightsAcesso restrito
dc.sourceWeb of Science
dc.titleDeposition and etching of HMDSO/SF6 plasma polymerized thin films.en
dc.typeResumo
dcterms.licensehttp://pubs.acs.org/paragonplus/copyright/jpa_form_a.pdf
dcterms.rightsHolderAmer Chemical Soc
dspace.entity.typePublication
unesp.author.lattes0406258050385008
unesp.author.lattes9585258374949244
unesp.author.lattes0400554449253191
unesp.campusUniversidade Estadual Paulista (UNESP), Faculdade de Engenharia, Guaratinguetápt
unesp.departmentFísica e Química - FEGpt

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