Processo de interrupção do fluxo do gás reativo durante deposições feitas por sputtering
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Data
2023-06-13
Orientador
Coorientador
Pós-graduação
Curso de graduação
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Tipo
Patente
Direito de acesso
Acesso aberto
Resumo
O presente pedido de patente de invenção trata-se de um processo de interrupção do fluxo do gás reativo que alimenta a câmara de deposição do sputtering durante o período de deposição dos filmes finos, a fim de se modificar propriedades físicas, morfológicas e estruturais dos materiais depositados. O presente processo pode ser utilizado em escalas laboratoriais, comerciais ou industriais.
Descrição
BR 10 2021 024344 9
Palavras-chave
Idioma
Português