Materiais fotocrômicros de matriz polimérica e respectivos método de obtenção e uso
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Pós-graduação
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Editor
Instituto Nacional de Propriedade Industrial (INPI)
Tipo
Patente
Direito de acesso
Acesso aberto
Resumo
A presente invenção refere-se a um material compásito, de matriz polimérica, no qual são incorporados materiais fotossensiveis, notadamente heteropoliánions (polioxometalatos POMs), partícularmente ácido fosfotúngstico, ácido siíícotúngstico, ácido fosfomolíbdico e ácido silicomofíbdico, A matriz polimérica é constituída preferencialmente por acrilato, metacrilato, acetato de celulose e hidroxipropilcelulose. Refere-se também ao processo para incorporação dos agentes fotossensíveis nas matrizes políméricas e ao uso do dito produto obtido ao final do processo.
Descrição
Processo: PI0905108-2
Número de publicação: BRPI0905108 (A2)
Número de aplicação: BR2009PI05108
Número de publicação: BRPI0905108 (A2)
Número de aplicação: BR2009PI05108
Palavras-chave
Idioma
Português
