Processo de interrupção do fluxo do gás reativo durante deposições feitas por sputtering

dc.contributor.author	Silva, Jose Humberto Dias da
dc.contributor.author	Escaliante, Lucas Caniati
dc.contributor.author	Pereira, André Luis de Jesus
dc.contributor.institution	Universidade Estadual Paulista Julio de Mesquita Filho (UNESP)
dc.date.accessioned	2023-07-03T20:17:05Z
dc.date.available	2023-07-03T20:17:05Z
dc.date.created	2021-12-02
dc.date.issued	2023-06-13
dc.description	BR 10 2021 024344 9	pt
dc.description.abstract	O presente pedido de patente de invenção trata-se de um processo de interrupção do fluxo do gás reativo que alimenta a câmara de deposição do sputtering durante o período de deposição dos filmes finos, a fim de se modificar propriedades físicas, morfológicas e estruturais dos materiais depositados. O presente processo pode ser utilizado em escalas laboratoriais, comerciais ou industriais.	pt
dc.identifier	https://busca.inpi.gov.br/pePI/servlet/ImagemDocumentoPdfController?CodDiretoria=200&NumeroID=05409aa9b80ccdf97f31d81768f9c3c84b1ac344dcc08b3aa83b8633c6bc88dd&certificado=undefined&numeroProcesso=&ipasDoc=undefined&codPedido=1637816
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11449/244336
dc.language.iso	por
dc.rights.accessRights	Acesso aberto
dc.title	Processo de interrupção do fluxo do gás reativo durante deposições feitas por sputtering	pt
dc.type	Patente

Arquivos

Agora exibindo 1 - 1 de 1

Agora exibindo 1 - 1 de 1