Processo de obtenção de revestimentos à base de silício e polímeros revestidos obtidos

Abstract

A presente invenção refere-se ao processo de obtenção de revestimentos à base de silício, por meio de deposição química de vapor em plasmas de baixa pressão, que promovem melhoria nas propriedades de barreira de materiais poliméricos, tais como a Poliamida 6, devido à formação de camada única de oxicarbeto de silício. Os revestimentos produzidos apresentaram melhorias na propriedade de barreira em, pelo menos, 40%. Estes revestimentos podem ser aplicados principalmente na produção de embalagens com maior barreira ao oxigênio, à vapor d’água e à radiação ultravioleta.