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Deposição de filmes finos metálicos e de tin por descarga elétrica em arco no vácuo

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dc.contributor.advisorBosco, Edson Del [UNESP]
dc.contributor.authorNequiz Avalos, Héctor Salvador [UNESP]
dc.contributor.institutionUniversidade Estadual Paulista (UNESP)
dc.date.accessioned2026-05-15T17:30:26Z
dc.date.issued1995
dc.format.extent117 f. (Publicação 41)
dc.identifier.alma990000257100206341
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/11449/324151
dc.publisherUniversidade Estadual Paulista (UNESP)
dc.rights.accessRightsAcesso abertopt
dc.sourceAlma
dc.subjectPlasma (Gases ionizados)pt
dc.subjectPlasma de baixa temperaturapt
dc.titleDeposição de filmes finos metálicos e de tin por descarga elétrica em arco no vácuopt
dc.typeDissertação de mestradopt
dspace.entity.typePublication
relation.isOrgUnitOfPublicationa4071986-4355-47c3-a5a3-bd4d1a966e4f
relation.isOrgUnitOfPublication.latestForDiscoverya4071986-4355-47c3-a5a3-bd4d1a966e4f
unesp.campusUniversidade Estadual Paulista (UNESP), Faculdade de Engenharia e Ciências, Guaratinguetápt

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